ایرنا:
محققان دانشگاه تربیت مدرس تهران، موفق به ساخت پوششی شدند که دارای ویژگی خود تمیزشوندگی است.

به گزارش ایرنا از ستاد ویژه فناوری نانو، این پوشش جهت کاربرد در صنایع برق کشور به ویژه در مناطقی که میزان آلاینده های صنعتی زیاد است، بسیار پرکاربرد خواهد بود و در عین حال خواص آب دوستی و فتوکاتالیستی این پوشش در محدوده نور مرئی بسیار مناسب است.

فتوکاتالیست (Photocatalyst) کاتالیزورهایی است که در حضور نور فعال می شوند. کاتالیزور ماده ای است که سرعت واکنش شیمیایی را افزایش می دهد بدون آن که در واکنش شرکت کند.

عایق های مورد استفاده در صنایع برق کشور وظیفه جداسازی مسیرهای خطوط فشار قوی از زمین را برعهده دارند. آنها عایق های برگشت پذیری هستند که تحت ولتاژهای بالا از بین می روند و دیگر قابل استفاده نخواهند بود. لذا باید از استقامت الکتریکی و مکانیکی خاصی برخوردار باشند.

یکی از مشکلات این عایق ها این است که به محض نشستن آلاینده های آلی بر روی سطوحشان (بخصوص در مناطق جنوب کشور به دلیل تجمع زیاد صنایع شیمیایی) خاصیت عایق بودن را از دست داده و رسانا می شوند.

از این رو در این طرح اقدام به تولید پوشش های خود تمیزشونده ای شد که با تکیه بر خاصیت فتوکاتالیستی ، در معرض نور خورشید و با جذب انرژی آن شروع به تجزیه آلاینده ها کرده و از تعطیل شدن (Shut down) خطوط فشار قوی در نقاط حساس صنایع پتروشیمی جلوگیری می کند.

بنا به نتایج، پوشش تولیدی دارای اندازه ذرات نانومتری است که از سطح ویژه بسیار بالا برخوردارند. ضخامت این پوشش 200 نانومتر است و بازده فرآیند فتوکاتالیستی آن نسبت به پوشش خالص تیتانیا افزایش چشمگیری دارد.

همچنین، استفاده از این پوشش ها بر روی آیینه های ماشین جهت جلوگیری از نشستن بخار روی شیشه و کاهش دید راننده و نیز نمای ظاهری آپارتمان هایی با طبقات زیاد که برای تمیز کردن آن ها نیاز به هزینه های بسیار بالایی است ، بسیار مفید خواهد بود.

این محققان در ادامه این طرح در تلاش هستند ، پوشش های آب دوست خودتمیزشونده را با مواد اولیه تجاری و کم هزینه تر تولید نمایند.

دکتر بهزاد کوزه گر کالجی با همکاری نوید حسین آبادی (دانشجوی دکتری مهندسی مواد در دانشگاه تربیت مدرس تهران) و با راهنمایی دکتر رسول صراف ماموری(عضو هیئت علمی دانشگاه تربیت مدرس تهران) این تحقیق را انجام دادند که نتایج آن در مجله Journal of Sol-Gel Science and Technology (جلد 69 ) منتشر شده است.